商標法及專利法新制即將上路
商標法及專利法修正案，已分別於100年6月29日及12月21日經總統令修正公布，新法預定在本(101)年7月及11月先後施行。
商標法修正案共計111條（修正71條，增訂26條，刪除9條），涉及多項制度變革，包括擴大商標註冊保護客體，如動態、全像圖等新型態商標；明定商標之各種使用行為態樣；加強著名商標之保護等等，是歷年來修法幅度最大的。為使各界充分瞭解及適應修正後之制度運作，智慧局已積極推動後續配套工作，持續進行商標法施行細則及各項審查基準等相關法令之修正，將陸續於101年5月之前完成辦理各項宣導及說明會，使民眾儘早瞭解新法規定及相關配套措施，以促進新商標法之施行效益。
專利法修正案共計159條(修正108條，增訂36條，刪除15條)，亦涉及多項制度變革，包括開放部分設計、電腦圖像及圖形化使用者介面（Icons & GUI）設計、成組物品設計，並增訂衍生設計制度；修正專利舉發制度，如廢除依職權審查、得就部分請求項提起舉發等。智慧局正積極進行研修專利法施行細則及專利審查基準等後續配套工作，並於101年1月起陸續辦理專利法修正內容說明會、增修子法之公聽會，使民眾儘早瞭解新法規定及相關配套措施，使新專利法能順利推動。
新法配套措施等相關資料、公聽會及宣導說明會訊息可至智慧局網站查閱。
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